По сообщениям южнокорейских СМИ, компании Samsung Electronics и SK Hynix ускоряют перевод производства DRAM на технологию литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
Компания Samsung недавно объявила о завершении разработки технологического процесса 7LPP и начале производства полупроводниковой продукции с его использованием. Этот 7-нанометровый техпроцесс, оптимизированный по критерию энергопотребления, построен на использовании EUV. На очереди — внедрение технологии EUV в производстве DRAM. В отличие от логических микросхем, в случае микросхем памяти внедрение технологии EUV планируется на этапе «10-нанометрового класса» (1у нм), после чего технологические нормы будут уменьшены.
