Нитрид бора (BN) является привлекательным материалом для полупроводниковой промышленности, поскольку из него можно формировать слои изолятора толщиной всего один атом. Однако пока нет пригодной для использования в серийном производстве технологии формирования таких пленок.
Специалисты TSMC и NCTU совершили прорыв в синтезе нитрида бора
На чтение 1 мин.
Вам также может понравиться
Источник поделился эксклюзивной информацией о грядущих
0339
Бренд Honor запланировал на завтра онлайновую пресс-конференцию
0339
Компания Chuwi представила новый компактный мини-ПК
0338
Компания Xiaomi на своей платформе коллективного финансирования
0338
Несмотря на то, что на многих рынках 5G появится очень
097
Вчера мы узнали, что технология ASRock Base Frequency
0339
В конце прошлого года стало известно, что компания
0314
Эван Блэсс (Evan Blass) поделился изображениями очередного
0311